7月9日,由中国集成电路创新联盟主办的”2022集成电路产业链协同创新发展交流会”以六大会场加网络连线的方式同步举行。来自集成电路全产业链各环节的优秀企业、高校和科研院所的千余位代表参会,东方晶源董事长俞宗强博士、总经理蒋俊海先生受邀出席。会上颁发了第五届集成电路产业技术创新奖(简称“IC创新奖”),东方晶源凭借电子束缺陷检测设备(EBI),斩获技术创新奖。
“IC创新奖”由中国集成电路创新联盟主办,面向国内集成电路产业链上下游企事业单位征集,重点鼓励集成电路技术创新、成果产业化、产业链上下游合作,是集成电路产业最重要的技术奖项之一,其中技术创新奖项旨在表彰在集成电路重大技术创新和关键技术开发方面取得重大突破的单位和团队。此次摘得行业重磅赛事的重要奖项,再次彰显出东方晶源在电子束检测、量测领域的技术实力和行业的高度认可。
检测是芯片制造厂商提高良率的关键手段。电子束检测设备具有超高精度,在高端芯片制造过程发挥的作用越来越大。目前,该类设备被国外厂商垄断,成为制约我国芯片制造自主可控的关键瓶颈。东方晶源数年磨剑,成功研发出国内首台电子束缺陷检测设备SEpA-i505,可提供完整的纳米级缺陷检测和分析解决方案。目前已通过我国头部芯片制造厂商产线验证,验证结果表明主要指标与国外一线对标机台达到同等水平,成功解决我国在电子束检测领域的关键技术难题。
东方晶源在电子束检测、量测领域已深耕多年并成功推出多款设备,取得重大突破。除此次获奖的电子束缺陷检测设备EBI外,旗下首台12英寸关键尺寸量测设备CD-SEM(型号:SEpA-c410)于去年6月进入产线验证,目前完成成熟制程量产验证,图像质量清晰,与POR 的CD差异满足要求,性能持续改良中;首台8英寸CD-SEM(型号:SEpA-c300)于今年3月进入产线验证,目前已经进入客户产线小规模试产。此外,东方晶源还于近期发布了电子束缺陷复检设备(DR-SEM),目前该设备工程机(Alpha机)已经通过首轮wafer demo,可以满足28nm及以上的制程需求,Beta机集成工作加速推进中,已拿到客户订单,进入产线验证指日可待。
作为一家聚焦集成电路良率管理领域,以降低芯片制造门槛为使命的半导体企业,东方晶源一直以研发创新为发展核心,不断丰富产品矩阵并提升产品性能,填补多项国内空白。未来,东方晶源将继续立足一体化软件平台和检测装备两大领域,以客户为中心,以市场为导向,不断进行技术突破与产品创新,与我国集成电路产业上下游企业勠力同心,推动我国集成电路制造产业持续高速发展。
标题:东方晶源电子束缺陷检测设备EBI 斩获第五届“IC创新奖”
地址:http://www.heliu2.cn/xw/20741.html